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《GMP設計規(guī)范》與《潔凈廠房設計規(guī)范》的區(qū)別(上)

2025-12-19
《GMP設計規(guī)范》與《潔凈廠房設計規(guī)范》的區(qū)別(上)

【提要】 與《潔凈廠房設計規(guī)范》比較《GMP設計規(guī)范》突出了醫(yī)藥行業(yè)藥品生產(chǎn)的自身特點和特殊要求,并結(jié)合醫(yī)藥行業(yè)GMP的具體情況,對藥廠廠址選擇及總平面布置、工藝設計、設備、建筑、空氣凈化、給排水、電氣等作了具體詳細的規(guī)定和說明,可操作性較強。

《GMP設計規(guī)范》即《醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房設計規(guī)范》,它結(jié)合國內(nèi)外GMP的進展情況以及我國醫(yī)藥行業(yè)潔凈廠房建設、使用的實踐經(jīng)驗,從我國國民經(jīng)濟發(fā)展的實際水平和我國醫(yī)藥行業(yè)的生產(chǎn)現(xiàn)狀出發(fā),提出了我國醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房設計的基本要求。與《潔凈廠房設計規(guī)范》比較《GMP設計規(guī)范》突出了醫(yī)藥行業(yè)藥品生產(chǎn)的自身特點和特殊要求,并結(jié)合醫(yī)藥行業(yè)GMP的具體情況,對藥廠廠址選擇及總平面布置、工藝設計、設備、建筑、空氣凈化、給排水、電氣等作了具體詳細的規(guī)定和說明,可操作性較強。

以下就《GMP設計規(guī)范》與《潔凈廠房設計規(guī)范》做一比較。

1.適用范圍

《GMP設計規(guī)范》與《潔凈廠房設計規(guī)范》的適用范圍不同。《GMP設計規(guī)范》適用于“新建、改建和擴建的醫(yī)藥制劑,原料藥和藥用包裝材料,無菌醫(yī)療器械等醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房”的設計,其中包括生物制藥潔凈廠房的設計,而《潔凈廠房設計規(guī)范》不適用于“以細菌為控制對象的生物潔凈室”。

2.潔凈區(qū)環(huán)境參數(shù)
2.1主要控制對象和空氣潔凈度

因《GMP設計規(guī)范》適用于生物潔凈室而《潔凈廠房設計規(guī)范》不適用,所以兩規(guī)范針對的控制對象也就不同。《潔凈廠房設計規(guī)范》適用于潔凈區(qū)只控制微粒,而《GMP設計規(guī)范》不僅要控制微粒,還要控制微生物。因此,《GMP設計規(guī)范》不僅給出了每一潔凈度等級下的不同粒徑的塵埃數(shù)目,而且給出了每一潔凈度等級下的沉降菌和浮游菌的含菌濃度指標。《潔凈廠房設計規(guī)范》只給出了每一潔凈度等級下的不同粒徑的塵埃數(shù)目。

從兩規(guī)范的空氣潔凈度等級劃分以及相應的控制指標來看:兩規(guī)范的空氣潔凈度等級劃分以及對大于5μm塵粒的控制數(shù)目也不同。《GMP設計規(guī)范》把空氣潔凈度劃分為100級,10000級,100000級,大于100000級(相當于300000級)。《潔凈廠房設計規(guī)范》的潔凈度劃分為100級,1000級,10000級, 100000級。對大于5μm塵粒的控制數(shù)目也不同。

2.2溫濕度

《GMP設計規(guī)范》按潔凈度等級規(guī)定了溫濕度的范圍。100級,10000級區(qū)域一般控制溫度為20~24℃,相對濕度為45%~60%,100000級區(qū)域一般控制溫度為18~28℃,相對濕度為50%~65%。生產(chǎn)工藝有特殊要求時,應根據(jù)工藝要求確定。

《潔凈廠房設計規(guī)范》對溫濕度的規(guī)定是在“空氣凈化”一章中給出的,生產(chǎn)工藝無溫濕度要求時,控制溫度為20~26℃,相對濕度低于70%;人員凈化用室和生活用室溫度為16~28℃。有特殊要求時,應根據(jù)工藝要求確定。

2.3噪聲級

《GMP設計規(guī)范》與《潔凈廠房設計規(guī)范》在噪聲級上也有很大區(qū)別。

3.廠址選擇和總平面布置

醫(yī)藥企業(yè)受環(huán)境的影響較大,對環(huán)境的影響也較大,因此,廠址選擇極為重要。尤其是周圍環(huán)境的大氣含塵、含菌濃度要低,水質(zhì)要好。對于某些特殊藥品的廠房,如青霉素類等,其總平面布置應考慮防止與其他產(chǎn)品的交叉污染;原藥和制劑產(chǎn)品兼有的藥廠,原料藥生產(chǎn)區(qū)應置于制劑生產(chǎn)區(qū)的下風側(cè);三廢處理、鍋爐房等有嚴重污染的區(qū)域應置于廠房的大頻率風向下風側(cè);危險品庫應設于廠區(qū)安全位置,并相應的保護措施;廠區(qū)主要道路應貫徹人流與物流分流的原則。

對于廠區(qū)綠化《GMP設計規(guī)范》明確指出“不宜種花”,因為花粉是造成污染的原因之一。

4.工藝設計
4.1工藝布局

藥品生產(chǎn)的工藝流程日益復雜,使用的原材料品種規(guī)格繁多,加上生產(chǎn)員工較多以及操作頻繁,很容易造成人為差錯和產(chǎn)品的交叉污染。因此,醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房的工藝布局是極為重要的。為防止人流、物流之間的混雜和交叉污染,《GMP設計規(guī)范》提出四個基本要求:

a.分別設置人員和物料的進出口通道;
b.人員和物料進入潔凈生產(chǎn)區(qū)應有各自的凈化用室和設施;
c.生產(chǎn)操作區(qū)內(nèi)應只設置必要的工藝設備和設施;
d.輸送人員和物料的電梯宜分開。電梯不宜設在潔凈區(qū)內(nèi);
對潔凈房間布置,生產(chǎn)輔助用室的布置和潔凈度等級《GMP設計規(guī)范》也作了規(guī)定。

4.2 人員凈化

醫(yī)藥工業(yè)潔凈廠房能否達到GMP要求,人員凈化是關鍵的一環(huán)。在眾多的污染源中,人是大的污染源。人進入潔凈區(qū),如果不進行凈化或凈化效果不佳,會帶入大量的微粒和微生物,嚴重影響到潔凈區(qū)的空氣潔凈度。針對不同藥物不同劑型對微粒和微生物的控制程度,《GMP設計規(guī)范》做出了兩組不同的人員凈化程序。一組用于非無菌產(chǎn)品和可滅菌產(chǎn)品生產(chǎn)區(qū),另一組用于不可滅菌產(chǎn)品生產(chǎn)區(qū)。

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